一、特点：
1. 阴极电流效率极高，可达 22-26% 。
2.可使用电流密度高达 60 安培／平方分米以上。
3.沉积速度极高，是一般传统镀硬铬工艺的 2-3 倍。
4. 跟其它的混合催化剂镀铬工艺不同，DXF-26 不含氟化物，不会侵蚀工件的低电流区。
5.镀层的显微硬度达 1000-1100 KHN 100 。
6. 镀层的微裂纹数可达 1000 条／英寸，防腐蚀能力因而提高。
7.镀层平滑，细致光亮。
8. 镀层厚度均匀，减少高电流区之过厚沉积。
9. 可用液体添加剂补充，避免铬尘飞扬及溅水。
10. 不会猛烈侵蚀铅锡阳极，无需使用特殊阳极材料。
11.前处理流程、阳极、镀槽等均与一般传统镀铬工艺一样。